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半导体集成电路是依靠所谓的平面工艺一层一层制备起来的。对于逻辑器件,简单地说,首先是在 Si 衬底上划分制备晶体管的区域,然后是离子注入实现 N型和 P 型区域,其次是做栅极,随后又是离子注入,完成每一个晶体管的源极和漏极。这部分工艺流程是为了在 Si 衬底上实现 N 型和 P 型场效应晶体管,又被称为前道工艺。
(A)正确
(B)错误
参考答案
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